南京海森新材料亮相一步步研讨会，助力半导体清洗技术创新

在2024年5月30日举办的一步步研讨会西安站上，南京海森新材料携其先进的工业清洗剂产品及解决方案精彩亮相，吸引了众多与会专家、学者和企业代表的关注。

随着电子行业的飞速发展，半导体制造工艺日益复杂，对清洗技术的要求也越来越高。在半导体制造过程中，清洗工艺是贯穿始终的重要环节，约占所有芯片制造工序的30%。从芯片制造前的基片准备，到制造中的光刻胶去除、刻蚀产物清除，再到最终芯片的清洗与检验，湿法清洗设备及配套的工业清洗剂发挥着不可或缺的作用。

南京海森新材料在此次研讨会上展示了其为电子行业研发的清洗剂产品，如“SE111”，对各种金属基板上的机油等污染物以及工装治具上的胶水/助焊剂等残留物质有着非常好的清洗效果，同时还有效保护铝、铜、镁等合金材料，安全环保、操作方便，使用寿命长。此外，公司还展示了“ST811R”，适用于各种类型的钢网及钢网清洗机，能有效清洗各种类型的锡膏和SMT胶水残留。

南京海森新材料的技术专家在研讨会上详细介绍了其清洗剂产品的技术优势和应用案例。公司注重环保与高效相结合，其研发的低泡清洗剂在大规模工业清洗中表现出色，能够减少泡沫的产生，避免清洗液溢出和表面活性剂的浪费，同时提高清洗效率。此外，公司还致力于开发环保型清洗剂，以满足电子行业对绿色制造的要求。

此次研讨会汇聚了电子行业的众多精英，共同探讨了电子级超纯水制备、污水再生利用以及湿法清洗技术等前沿话题。南京海森新材料的参与，不仅为与会者带来了先进的清洗剂技术和产品，也为电子行业的清洗技术创新提供了新的思路和解决方案。

南京海森新材料相关负责人表示：“我们非常荣幸能够参加此次电子行业研讨会，与行业内的专家和企业共同交流和探讨。我们将继续加大研发投入，不断优化产品性能，为电子行业的高质量发展提供更优质、更高效的清洗剂产品和服务。”

此次研讨会的成功举办，不仅展示了南京海森新材料在电子行业清洗技术领域的领先地位，也为行业内的技术交流和合作搭建了重要平台。未来，南京海森新材料将继续秉持创新与环保的理念，致力于研发更高效、更环保的清洗剂产品，助力电子行业的可持续发展。

我们期待与更多的行业伙伴携手，共同推动电子制造技术的进步，为全球电子产业的发展贡献力量。